Маска с салициловой кислотой 2%, растительным углем, амазонскими глинами и скваланом.Маска с салициловой кислотой 2% разработана для устранения тусклого тона и неровностей текстуры. Формула, содержащая древесный уголь и глину, призвана сделать кожу гладкой и прозрачной, придавая коже ощущение свежести. Структура салициловой кислоты способствует ее липофильности и смешиваемости с липидами, расположенными на поверхности кожи. Это подходящий ингредиент для удаления омертвевших клеток с поверхности жирной и склонной к появлению пятен кожи с целью выявления более сияющей кожи под ней. Древесный уголь и глина - это ингредиенты, известные своими глубокими очищающими способностями из-за их пористости и большой площади поверхности, доступной для адсорбции. Они помогают удалить загрязнения с лица, которые в противном случае остались бы на поверхности кожи и закупорили поры. По сравнению с 2% раствором салициловой кислоты, маска с салициловой кислотой 2% представляет собой формулу для ополаскивания.

Подходит для жирной и склонной к появлению пятен кожи.